Главная ДЛЯ ЛИЦА ОЧИЩЕНИЕ [J:ON] LHA Гель-пилинг для лица Clear&Bright Skin Peeling Gel - 5 мл
Рейтинг:
(0 голосов)

[J:ON] LHA Гель-пилинг для лица Clear&Bright Skin Peeling Gel - 5 мл

Артикул: 8802929007052
Наличие на Генерала Белика 1
В наличии
Все параметры
60.00
Количество:
Добавить к сравнению
Поделиться
Гель пилинг-скатка для лица в пирамидке бережно очищает кожу лица от загрязнений и излишков себума, мягко отшелушивает ороговевшие клетки кожи и заботится о вашей красоте!
Основа средства — LHA кислота. Она бережно очищает кожу от загрязнений и излишков себума, мягко отшелушивает ороговевшие клетки. Комплекс из натуральных экстрактов и пробиотиков не пересушивает, увлажняет и успокаивает эпидермис. Результат: чистая, гладкая и сияющая кожа.
Преимущества:
- Гель-пилинг для лица мягко и глубоко очищает;
- Эффективно отшелушивает, не оставляя ощущения стянутости;
- Нормализует работу сальных желез;
- Хорошо увлажняет и оставляет приятный успокаивающий эффект.
Активные компоненты:
•Липогидроксикислота (LHA) — родственница нашей любимой салициловой кислоты, но только мягче. Прекрасно отшелушивает ороговевшие частички и стимулирует обновление клеток. Обладает противовоспалительным эффектом и не наносит микроповреждений.
•Экстракт аниса - имеет тонизирующий и заживляющий эффект. 
•Экстракт зеленого чая — сильный антиоксидант, защищающий здоровые клетки от повреждения. Корейская пилинг-скатка оказывает антисептическое действие и восстанавливает стенки кровеносных сосудов.
•Экстракт алоэ — глубоко увлажняет, успокаивает кожу и помогает избавиться от акне. Борется с угревой сыпью и черными точками, выравнивает цвет лица и устраняет с пигментными пятнами.
Способ применения: Наберите немного средства сухими руками и начинайте мягко массировать кожу. Помните, перед применением кожу нужно хорошо чистить. Как только “катышков” станет много, тщательно смойте их теплой водой. Рекомендуем использовать гель-пилинг с кислотами не чаще 1-2 раз в неделю.

Наличие на Генерала Белика 1
В наличии
Оставить комментарий
Заполните обязательные поля *.